品牌 | 吉米諾 |
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> 采用PID溫度控制技術,恒溫波動度±0.05℃~0.1℃;
> 加熱管和制冷盤(pan)管均采用(yong)不銹鋼材質,易清洗;
> 細膩的隔熱和保溫設計,確保設備在95℃運行時,儀器表面(mian)溫度不會(hui)太高,保證(zheng)操作安全;
> 低(di)噪音設計,免除實驗室噪音難題;
> 設備操作簡單,自動和手動2種模式,操作更方便;
> 工作溫度范圍內的過溫安(an)全保(bao)護(hu)功(gong)能,保(bao)護(hu)實驗安(an)全;
> 具有斷(duan)電記憶功能(neng);
> 具有低(di)液位(wei)保護和機械限(xian)溫保溫,雙重保護,使用更放(fang)心;
> 適(shi)合外循環敞口(kou)(kou)槽實驗,給(gei)敞口(kou)(kou)槽提供一個恒溫源;
> 9點(dian)溫(wen)度(du)校(xiao)(xiao)準(zhun)和單點(dian)溫(wen)度(du)校(xiao)(xiao)準(zhun),溫(wen)度(du)數據更可靠;
> 品(pin)牌(pai)壓縮機,制(zhi)冷效率(lv)高;
> 相(xiang)關配件采(cai)用,性能穩定且壽命長(chang);
> 全封閉磁力泵/離心泵循環攪拌,溫場均勻;
> 具(ju)備傳感器開路、短路保護、ADC初始化檢測等,安全防護更全面;
應(ying)用(yong)范圍
> 小型降溫(wen)控制系統
> 材料低溫老化測試
> 化學(xue)設備冷源的溫度(du)控制
> 半導體設備的溫度控制
> 高壓(ya)反應釜動態溫度控制
> 雙(shuang)層玻璃反應釜動(dong)態溫度控制
> 雙層(ceng)反應釜動(dong)態溫(wen)度(du)控制(zhi)
> 微通道反應器溫度控制
> 蒸(zheng)餾(liu)系統控溫
> 材料物質冷卻/加熱/恒溫檢測
可選附(fu)件
> 可選(xuan)程序(xu)化(hua)溫(wen)度控(kong)制(zhi)(zhi),可對(dui)控(kong)溫(wen)范(fan)圍(wei)內的溫(wen)度做程序(xu)化(hua)要求,實現曲線溫(wen)度控(kong)制(zhi)(zhi);
> 可選配RS485通訊接口;
> 嵌(qian)入式不銹鋼蓋,用于更緊湊的(de)空間需求;
> SUS304液槽(cao)隔板;
技術參(can)數
密閉式低溫恒溫循環槽(-30℃~95℃)
型號 | QMD30-10 | QMD30-15 | QMD30-25 | QMD30-40 |
控溫范(fan)圍 | -30℃~95℃ | |||
溫度波動度 | 0.05℃~0.1℃ | |||
顯(xian)示精度 | 0. 01℃/0.1℃ | |||
溫度控制 | PID自整定 | |||
制冷形式 | 單壓縮機制冷 | |||
安全(quan)性(xing)能 | 數(shu)顯溫(wen)(wen)度校(xiao)準,傳感器(qi)開路、短(duan)路保(bao)(bao)護和報警,雙重溫(wen)(wen)度保(bao)(bao)護,高低溫(wen)(wen)保(bao)(bao)護,低液位保(bao)(bao)護 | |||
密閉腔容積 | 10L | 15L | 25L | 40L |
外形尺寸(mm) | 380x540x680 | 440x600x760 | 540x700x1000 | 630x720x1160 |
流量(liang) | 10L/min | 15L/min | 20L/min | 30L/min |
壓(ya)力 | 0.4bar | 0.8bar | 1.0bar | 1.2bar |
加熱功率 | 1.5KW | 2.5KW | 2.5KW | 6KW |
制冷功率@20℃ | 0.8KW | 1.2KW | 2KW | 4KW |
電源 | 220V 50Hz | 380V 50Hz |
備(bei)注:密閉(bi)式低溫恒(heng)溫循環器(qi)所有(you)(you)技(ji)術(shu)參(can)(can)數(shu)(shu)均(jun)為標準配(pei)置(zhi)參(can)(can)數(shu)(shu),溫度波(bo)動度、壓力、流量、加熱(re)功率(lv)等詳細技(ji)術(shu)參(can)(can)數(shu)(shu)等有(you)(you)特別要求,可以根據實際的(de)需(xu)求做非標定制(zhi)化處理。
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