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定(ding)制低(di)溫(wen)恒溫(wen)循環槽MD20-5P，容積5L，控溫(wen)范圍(wei)-5℃～100℃，高(gao)達至溫(wen)度100℃，作(zuo)為直接加熱(re)、制冷(leng)、輔助(zhu)加熱(re)、輔助(zhu)制冷(leng)的熱(re)源或(huo)冷(leng)源，用于(yu)低(di)溫(wen)測量和(he)檢定(ding)，樣品保存等浸入式或(huo)外(wai)循環使用

低(di)溫(wen)恒溫(wen)槽(cao)MD10-54$n低(di)溫(wen)恒溫(wen)槽(cao)提供熱(re)冷(leng)受控，溫(wen)度(du)均(jun)勻恒定的(de)場源，可作為直接加熱(re)、制(zhi)冷(leng)、輔助加熱(re)、輔助制(zhi)冷(leng)的(de)熱(re)源或冷(leng)源，整個(ge)量程范(fan)圍的(de)溫(wen)度(du)精確控制(zhi)，恒溫(wen)波(bo)動度(du)±0.05℃。

低溫(wen)(wen)恒溫(wen)(wen)反應(ying)槽（-20℃～90℃）可直(zhi)接加(jia)熱(re)(re)(re)、制冷(leng)(leng)(leng)、輔(fu)助加(jia)熱(re)(re)(re)、輔(fu)助制冷(leng)(leng)(leng)的熱(re)(re)(re)源(yuan)或(huo)冷(leng)(leng)(leng)源(yuan)，用于(yu)石(shi)油化工(gong)、制藥等化學(xue)反應(ying)工(gong)藝過程控(kong)制，半導體擴散爐擴散工(gong)藝控(kong)制，低溫(wen)(wen)測量和檢定(ding)，樣品保存等浸(jin)入式或(huo)外循環應(ying)用

MD80-12-低(di)溫恒溫反應浴（-80℃～90℃）提供熱冷(leng)受控(kong)，溫度均勻恒定的場源，可作(zuo)為直接加熱、制冷(leng)、輔助(zhu)加熱、輔助(zhu)制冷(leng)的熱源或冷(leng)源，整個量程范圍的溫度精確控(kong)制，恒溫波(bo)動度±0.1℃。

MD40-54-加(jia)熱制(zhi)冷(leng)循環器（-40℃～90℃）提供熱冷(leng)受控(kong)，溫度(du)均(jun)勻恒定的(de)(de)場源(yuan)，可作為直(zhi)接加(jia)熱、制(zhi)冷(leng)、輔(fu)助(zhu)加(jia)熱、輔(fu)助(zhu)制(zhi)冷(leng)的(de)(de)熱源(yuan)或冷(leng)源(yuan)，整個量程(cheng)范圍的(de)(de)溫度(du)精確控(kong)制(zhi)，恒溫波動度(du)±0.05℃。

加熱(re)制(zhi)冷恒溫水槽可廣泛用于石(shi)油(you)、化工(gong)、電(dian)子儀表(biao)、物(wu)理(li)、化學、生(sheng)物(wu)工(gong)程、醫藥衛生(sheng)、生(sheng)命科學、輕工(gong)食品、物(wu)性(xing)測試及化學分(fen)析等研究部門。

低溫(wen)恒溫(wen)槽MD40系(xi)列.溫(wen)波動度達到(dao)±0.05℃，提供(gong)熱冷(leng)受控(kong)，溫(wen)度均勻恒定的(de)(de)場源，也可作為直接加熱、制(zhi)冷(leng)、輔助(zhu)加熱、輔助(zhu)制(zhi)冷(leng)的(de)(de)熱源或冷(leng)源

MD40-12-低溫恒(heng)溫循環槽（-40℃～90℃）提供熱(re)冷(leng)受(shou)控，溫度均勻恒(heng)定(ding)的(de)場源，可作為直接加熱(re)、制(zhi)(zhi)冷(leng)、輔助(zhu)加熱(re)、輔助(zhu)制(zhi)(zhi)冷(leng)的(de)熱(re)源或冷(leng)源，整個量程范圍的(de)溫度精(jing)確控制(zhi)(zhi)，恒(heng)溫波動度±0.05℃。

MD10-4低(di)溫(wen)恒(heng)溫(wen)水槽（-10℃～90℃） 提供熱冷受控，溫(wen)度均勻恒(heng)定的場源，可(ke)作為(wei)直接加熱、制冷、輔(fu)助(zhu)加熱、輔(fu)助(zhu)制冷的熱源或冷源，整個量程(cheng)范圍的溫(wen)度精確控制，恒(heng)溫(wen)波(bo)動(dong)度±0.05℃。