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冷卻水循(xun)環機(ji)(ji)工廠(chang)采用(yong)PID微(wei)機(ji)(ji)智能(neng)控(kong)制(zhi)(zhi)系統，全封閉壓(ya)縮機(ji)(ji)制(zhi)(zhi)冷，主要(yao)有(you)壓(ya)縮機(ji)(ji)、冷凝器、節流閥、換熱(re)器、循(xun)環泵幾大件組成，具有(you)提供低溫液體(ti)、低溫水浴的作用(yong)

低(di)溫(wen)冷卻液(ye)循環泵（-10℃～室(shi)溫(wen)）具(ju)有提供低(di)溫(wen)液(ye)體、低(di)溫(wen)水(shui)浴的作用，在(zai)石油化工(gong)、制(zhi)藥、半導體工(gong)業、凍土研究(jiu)及土木工(gong)程(cheng)等(deng)領(ling)域內的低(di)溫(wen)和超低(di)溫(wen)過程(cheng)控制(zhi)，科學研究(jiu)和工(gong)程(cheng)應用，化學反(fan)應、試驗(yan)、測(ce)量、校準、人工(gong)凍結及環境條件模(mo)擬

低溫(wen)冷卻(que)循環裝置（-40℃～室(shi)溫(wen)）細膩的隔熱和保溫(wen)設計，確保設備在(zai)低溫(wen)-40℃運行時，儀器表(biao)面溫(wen)度不會太(tai)低，影(ying)響冷量。

超低溫冷(leng)卻裝置（-80℃～室(shi)溫）超低溫冷(leng)卻裝置采用(yong)復疊式壓(ya)縮制(zhi)冷(leng)，噪音低，制(zhi)冷(leng)效率高(gao)，應用(yong)于石油化工、制(zhi)藥等(deng)(deng)化學反應工藝(yi)過(guo)程控制(zhi)，半導體擴散爐擴散工藝(yi)控制(zhi)等(deng)(deng)浸(jin)入式或外(wai)循環應用(yong)，可以(yi)提供熱冷(leng)受控，溫度均(jun)勻恒定的(de)液體環境，可作為直接制(zhi)冷(leng)、輔助制(zhi)冷(leng)的(de)冷(leng)源(yuan)

低溫(wen)冷(leng)卻循(xun)(xun)環(huan)器（-40℃～室溫(wen)）低溫(wen)冷(leng)卻循(xun)(xun)環(huan)器采用PID微機智能控制系統

低溫冷凍液(ye)循環機（-30℃～室溫）低溫冷凍液(ye)循環機采(cai)用單臺壓縮制冷

低(di)(di)溫(wen)冷(leng)(leng)卻液(ye)循環泵(beng)(beng)（-10℃～室(shi)溫(wen)）低(di)(di)溫(wen)冷(leng)(leng)卻液(ye)循環泵(beng)(beng)采用PID微(wei)機智能控制(zhi)系統，全封閉壓縮機制(zhi)冷(leng)(leng)，主要有(you)壓縮機、冷(leng)(leng)凝器(qi)(qi)、節流閥、換熱(re)器(qi)(qi)、循環泵(beng)(beng)幾大件組成，具(ju)有(you)提供低(di)(di)溫(wen)液(ye)體、低(di)(di)溫(wen)水(shui)浴的作用

超低(di)溫(wen)(wen)(wen)冷卻循(xun)環(huan)裝置（-80℃～室溫(wen)(wen)(wen)）超低(di)溫(wen)(wen)(wen)冷卻循(xun)環(huan)裝置超低(di)溫(wen)(wen)(wen)恒溫(wen)(wen)(wen)槽采用(yong)復疊式壓縮制(zhi)(zhi)冷，能耗低(di)，降溫(wen)(wen)(wen)速度快，是深低(di)溫(wen)(wen)(wen)設備的技術，用(yong)于石油(you)化工、制(zhi)(zhi)藥、半導體工業(ye)、凍土(tu)研究(jiu)(jiu)及(ji)土(tu)木工程(cheng)等(deng)領域內的低(di)溫(wen)(wen)(wen)和(he)超低(di)溫(wen)(wen)(wen)過程(cheng)控(kong)制(zhi)(zhi)，科(ke)學(xue)(xue)研究(jiu)(jiu)和(he)工程(cheng)應(ying)用(yong)，化學(xue)(xue)反應(ying)、試驗、測量、校準(zhun)、人工凍結及(ji)環(huan)境條件模(mo)擬(ni)等(deng)

大容(rong)量低溫(wen)冷卻循環裝置（-40℃～室溫(wen)）