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定制(zhi)低(di)溫(wen)恒溫(wen)循(xun)環槽MD20-5P，容積(ji)5L，控溫(wen)范圍-5℃～100℃，高(gao)達至溫(wen)度100℃，作為直接加(jia)熱(re)(re)、制(zhi)冷、輔助加(jia)熱(re)(re)、輔助制(zhi)冷的熱(re)(re)源或冷源，用于低(di)溫(wen)測(ce)量和檢定，樣品保(bao)存等浸入式或外循(xun)環使用

低溫恒溫反(fan)應槽(cao)（-20℃～90℃）可直接加熱、制冷(leng)(leng)、輔助加熱、輔助制冷(leng)(leng)的熱源(yuan)或冷(leng)(leng)源(yuan)，用(yong)于石(shi)油化工(gong)、制藥等化學反(fan)應工(gong)藝過(guo)程控(kong)制，半導體(ti)擴散爐擴散工(gong)藝控(kong)制，低溫測(ce)量和檢定，樣品保存(cun)等浸入式或外循環應用(yong)

低(di)溫(wen)(wen)恒(heng)溫(wen)(wen)槽MD40系列.溫(wen)(wen)波動(dong)度達到±0.05℃，提(ti)供熱冷(leng)(leng)受控，溫(wen)(wen)度均勻(yun)恒(heng)定(ding)的場源(yuan)，也可作為直接加熱、制冷(leng)(leng)、輔助(zhu)加熱、輔助(zhu)制冷(leng)(leng)的熱源(yuan)或冷(leng)(leng)源(yuan)

低(di)溫(wen)恒(heng)溫(wen)水槽MD5-4，容積4.5L，控(kong)溫(wen)范(fan)圍-5℃～90℃，溫(wen)度(du)(du)波動度(du)(du)0.05℃，提供熱冷受控(kong)，溫(wen)度(du)(du)均勻(yun)恒(heng)定的(de)場(chang)源，用于(yu)石(shi)油化工、制(zhi)(zhi)藥(yao)等化學反應(ying)工藝(yi)過程控(kong)制(zhi)(zhi)，半導(dao)體擴散(san)爐(lu)擴散(san)工藝(yi)控(kong)制(zhi)(zhi)，低(di)溫(wen)測量(liang)和(he)檢定，樣品(pin)保存等浸入式(shi)或外循環(huan)應(ying)用

低溫恒(heng)溫水槽（-20℃～100℃）MD20系列，恒(heng)溫波動(dong)度達到(dao)±0.05℃，提(ti)供(gong)熱(re)冷受(shou)控，溫度均勻(yun)恒(heng)定的(de)場源，也可作(zuo)為(wei)直接加熱(re)、制(zhi)冷、輔(fu)助加熱(re)、輔(fu)助制(zhi)冷的(de)熱(re)源或冷源

超低(di)溫(wen)恒溫(wen)裝置（-90℃～100℃）采(cai)用復疊式壓縮制(zhi)冷(leng)，噪音低(di)，制(zhi)冷(leng)效(xiao)率高，可(ke)以提(ti)供熱(re)冷(leng)受控，溫(wen)度(du)均(jun)勻恒定的(de)液體環境，也可(ke)作為(wei)直接(jie)加(jia)熱(re)、制(zhi)冷(leng)、輔助(zhu)加(jia)熱(re)、輔助(zhu)制(zhi)冷(leng)的(de)熱(re)源或冷(leng)源，恒溫(wen)波動度(du)達到±0.1℃

加(jia)熱(re)制冷浴槽（-30℃～90℃）主要(yao)有(you)壓縮機、冷凝器、節流閥、換熱(re)器、循(xun)環(huan)泵、加(jia)熱(re)器等(deng)(deng)幾(ji)大件(jian)組成，用于(yu)-30℃石油化(hua)(hua)工、制藥等(deng)(deng)化(hua)(hua)學反應工藝過程控(kong)(kong)制，半導體擴(kuo)散(san)爐擴(kuo)散(san)工藝控(kong)(kong)制，低(di)溫測量和(he)檢定，樣品保存等(deng)(deng)浸入式或外(wai)循(xun)環(huan)應用

大(da)容量(liang)加熱(re)制冷(leng)浴槽(cao)MD30-100，容積100L，控溫(wen)(wen)范(fan)圍：-30℃～90℃（高至溫(wen)(wen)度100℃），可作為直接(jie)加熱(re)、制冷(leng)、輔助(zhu)加熱(re)、輔助(zhu)制冷(leng)的熱(re)源(yuan)或冷(leng)源(yuan)，用于-30℃的樣(yang)品保存(cun)、分析測試和計量(liang)檢(jian)定(ding)等

低(di)溫恒溫循環槽 MD20-20可作為直(zhi)接加熱(re)(re)、制(zhi)(zhi)冷(leng)、輔助(zhu)加熱(re)(re)、輔助(zhu)制(zhi)(zhi)冷(leng)的熱(re)(re)源(yuan)或冷(leng)源(yuan)，用于石油化(hua)工、制(zhi)(zhi)藥(yao)等化(hua)學反應工藝過程控制(zhi)(zhi)，半導體擴散爐擴散工藝控制(zhi)(zhi)，低(di)溫測量和檢定(ding)，樣(yang)品保(bao)存等浸入式或外循環應用。