加熱制(zhi)冷水槽(-30℃~90℃)可作為直接加熱、制(zhi)冷、輔(fu)(fu)助加熱、輔(fu)(fu)助制(zhi)冷的熱源或冷源,用于石油化工、制(zhi)藥、半導體(ti)擴(kuo)散爐擴(kuo)散工藝控制(zhi),低溫測量和(he)檢定,樣(yang)品保(bao)存等浸入式實驗或外(wai)循環應用。
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