加熱(re)制(zhi)(zhi)冷水槽（-30℃～90℃）可作為(wei)直接加熱(re)、制(zhi)(zhi)冷、輔助加熱(re)、輔助制(zhi)(zhi)冷的熱(re)源或(huo)冷源，用于石油化(hua)工(gong)、制(zhi)(zhi)藥、半導體擴(kuo)散爐擴(kuo)散工(gong)藝控制(zhi)(zhi)，低溫測量和檢(jian)定(ding)，樣品保存等浸入式實驗或(huo)外(wai)循(xun)環(huan)應(ying)用。
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