高(gao)(gao)低溫(wen)(wen)一體恒溫(wen)(wen)槽MGD40-20為(wei)用(yong)戶提供熱(re)(re)冷(leng)受控(kong),溫(wen)(wen)度(du)均勻恒定的(de)場(chang)源(yuan),也可(ke)作為(wei)直接加熱(re)(re)、制(zhi)(zhi)冷(leng)、輔助(zhu)(zhu)加熱(re)(re)、輔助(zhu)(zhu)制(zhi)(zhi)冷(leng)的(de)熱(re)(re)源(yuan)或(huo)冷(leng)源(yuan), 應(ying)用(yong)于-40℃~180℃(高(gao)(gao)至溫(wen)(wen)度(du)195℃)石油化工(gong)、制(zhi)(zhi)藥等化學反應(ying)工(gong)藝(yi)過程控(kong)制(zhi)(zhi),半導體擴散爐(lu)擴散工(gong)藝(yi)控(kong)制(zhi)(zhi),對反應(ying)釜、全(quan)自(zi)動合成(cheng)儀器(qi)、萃取以及冷(leng)凝裝置(zhi)的(de)恒溫(wen)(wen)控(kong)溫(wen)(wen)或(huo)外循環應(ying)用(yong)
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