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高低溫(wen)恒(heng)(heng)(heng)溫(wen)循環(huan)(huan)槽（-20℃～180℃），MGD20-20實現高溫(wen)195℃，低溫(wen)-20℃恒(heng)(heng)(heng)溫(wen)測(ce)試，為用戶提供熱冷(leng)(leng)受控(kong)，溫(wen)度均勻恒(heng)(heng)(heng)定的(de)(de)場源，也可作為直(zhi)接加熱、制(zhi)冷(leng)(leng)、輔助加熱、輔助制(zhi)冷(leng)(leng)的(de)(de)熱源或冷(leng)(leng)源，整個量程范圍的(de)(de)溫(wen)度精確控(kong)制(zhi)，恒(heng)(heng)(heng)溫(wen)波動(dong)度達到±0.1℃， 應(ying)(ying)用于石油化(hua)工(gong)(gong)(gong)、制(zhi)藥(yao)等化(hua)學(xue)反(fan)應(ying)(ying)工(gong)(gong)(gong)藝(yi)過程控(kong)制(zhi)，半導體擴散(san)爐擴散(san)工(gong)(gong)(gong)藝(yi)控(kong)制(zhi)，對(dui)反(fan)應(ying)(ying)釜、全(quan)自動(dong)合成儀器、萃取(qu)以及冷(leng)(leng)凝裝置(zhi)的(de)(de)恒(heng)(heng)(heng)溫(wen)控(kong)溫(wen)或外(wai)循環(huan)(huan)應(ying)(ying)用。

高溫(wen)(wen)恒(heng)溫(wen)(wen)槽用(yong)于產品(pin)性(xing)能分(fen)析測(ce)試(shi)、計量(liang)檢(jian)定(ding)、化學反應(ying)工藝過程控制、普通溫(wen)(wen)度計及其(qi)它溫(wen)(wen)度測(ce)量(liang)儀表制造中的定(ding)標(biao)用(yong)途(tu)。

高低(di)溫(wen)(wen)(wen)(wen)恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)(wen)循(xun)環(huan)槽（-20℃～180℃），MDG20-30實現高溫(wen)(wen)(wen)(wen)195℃，低(di)溫(wen)(wen)(wen)(wen)-20℃恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)(wen)測試(shi)，為用戶提供熱冷受(shou)控(kong)(kong)，溫(wen)(wen)(wen)(wen)度均勻(yun)恒(heng)定(ding)的場源(yuan)，也可作為直接加熱、制冷、輔(fu)助加熱、輔(fu)助制冷的熱源(yuan)或冷源(yuan)，整個量程范圍的溫(wen)(wen)(wen)(wen)度精確(que)控(kong)(kong)制，恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)(wen)波動(dong)度達到±0.1℃， 應用于石油化(hua)工(gong)、制藥等化(hua)學反應工(gong)藝過程控(kong)(kong)制，半導體(ti)擴散爐擴散工(gong)藝控(kong)(kong)制，對反應釜(fu)、全自動(dong)合成(cheng)儀器(qi)、萃取以(yi)及冷凝裝置的恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)(wen)控(kong)(kong)溫(wen)(wen)(wen)(wen)或外循(xun)環(huan)應用。

低溫(wen)小型恒(heng)溫(wen)水槽（-5℃～90℃）MD20-30I提供(gong)熱(re)冷(leng)受控，溫(wen)度(du)均勻恒(heng)定(ding)的(de)場源，可(ke)作為直接加熱(re)、制(zhi)冷(leng)、輔(fu)助加熱(re)、輔(fu)助制(zhi)冷(leng)的(de)熱(re)源或冷(leng)源，整個量程范圍的(de)溫(wen)度(du)精確控制(zhi)，恒(heng)溫(wen)波動度(du)±0.05℃。

高低(di)溫(wen)(wen)恒溫(wen)(wen)槽MGD40-12為用戶(hu)提(ti)供熱冷(leng)(leng)受控，溫(wen)(wen)度(du)均勻恒定的(de)場(chang)源(yuan)，也(ye)可(ke)作為直接加(jia)熱、制冷(leng)(leng)、輔助加(jia)熱、輔助制冷(leng)(leng)的(de)熱源(yuan)或冷(leng)(leng)源(yuan)， 應用于-40℃～180℃（高至溫(wen)(wen)度(du)195℃）石油化工、制藥等(deng)化學反(fan)應工藝(yi)過(guo)程控制，半導體擴散(san)爐擴散(san)工藝(yi)控制，對反(fan)應釜、全自動(dong)合(he)成儀器、萃取(qu)以及冷(leng)(leng)凝裝置(zhi)的(de)恒溫(wen)(wen)控溫(wen)(wen)或外循環應用