加熱(re)(re)制(zhi)冷(leng)循環器(qi)(-20℃~180℃)$n實現高溫(wen)(wen)(wen)(wen)195℃,低(di)溫(wen)(wen)(wen)(wen)-20℃恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)(wen)測(ce)試,為(wei)用戶提供熱(re)(re)冷(leng)受(shou)控(kong)(kong),溫(wen)(wen)(wen)(wen)度(du)均(jun)勻恒(heng)定(ding)的場源,也可(ke)作為(wei)直接(jie)加熱(re)(re)、制(zhi)冷(leng)、輔(fu)助(zhu)加熱(re)(re)、輔(fu)助(zhu)制(zhi)冷(leng)的熱(re)(re)源或冷(leng)源,整(zheng)個(ge)量程范圍的溫(wen)(wen)(wen)(wen)度(du)精確(que)控(kong)(kong)制(zhi),恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)(wen)波動度(du)達到±0.1℃, 應用于石油化(hua)(hua)工、制(zhi)藥(yao)等(deng)化(hua)(hua)學反應工藝過程控(kong)(kong)制(zhi),半導體擴(kuo)散爐(lu)擴(kuo)散工藝控(kong)(kong)制(zhi),對(dui)反應釜、全(quan)自動合成儀器(qi)、萃取以及(ji)冷(leng)凝裝置的恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)(wen)控(kong)(kong)溫(wen)(wen)(wen)(wen)或外循環應用。
高低(di)溫恒(heng)溫槽(-40℃~180℃)實現高溫195℃,用于石(shi)油(you)化工、制(zhi)藥等化學反應工藝(yi)過程控制(zhi),對(dui)反應釜、全(quan)自(zi)動合成儀(yi)器、萃取(qu)以及冷凝裝(zhuang)置的恒(heng)溫控溫或(huo)外循(xun)環應用,低(di)使用溫度-40℃
MGD40-30-高低溫恒溫循環(huan)槽(-40℃~180℃)為(wei)用戶提(ti)供熱冷(leng)(leng)(leng)受控,溫度均勻恒定的(de)場源,也可作為(wei)直接加熱、制(zhi)冷(leng)(leng)(leng)、輔(fu)助加熱、輔(fu)助制(zhi)冷(leng)(leng)(leng)的(de)熱源或(huo)冷(leng)(leng)(leng)源, 應(ying)用于-40℃~180℃(高至(zhi)溫度195℃)石油化(hua)工(gong)、制(zhi)藥等化(hua)學反應(ying)工(gong)藝(yi)過程(cheng)控制(zhi),半導體擴散爐擴散工(gong)藝(yi)控制(zhi),對反應(ying)釜(fu)、全自動合成儀器、萃取以及冷(leng)(leng)(leng)凝裝置的(de)恒溫控溫或(huo)外循環(huan)應(ying)用
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