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高低溫恒溫槽MGD40-54

高低溫恒溫槽MGD40-20

加熱制(zhi)冷循環器MGD20-54

加熱(re)制冷(leng)循環器MGD20-30

加熱制冷循環器MGD20-20

加熱制冷循環器MGD20-12

高低溫恒溫槽（-40℃～200℃）

加熱(re)制冷(leng)循(xun)環器（-20℃～200℃）GMD20系列,可選(xuan)附(fu)件 1.可選(xuan)配RS485通訊接口，完成上位機通訊，監控(kong)和(he)控(kong)制； 2. 可選(xuan)密閉(bi)結(jie)構(gou)，保證(zheng)設備高低溫運行和(he)介質(zhi)的性能.

加熱(re)(re)制(zhi)冷(leng)(leng)(leng)循環器(qi)（-20℃～180℃）$n實現高(gao)溫(wen)(wen)(wen)195℃，低溫(wen)(wen)(wen)-20℃恒(heng)(heng)溫(wen)(wen)(wen)測試，為用(yong)(yong)戶提(ti)供熱(re)(re)冷(leng)(leng)(leng)受(shou)控，溫(wen)(wen)(wen)度(du)均(jun)勻恒(heng)(heng)定(ding)的場源，也可作(zuo)為直接加熱(re)(re)、制(zhi)冷(leng)(leng)(leng)、輔助(zhu)加熱(re)(re)、輔助(zhu)制(zhi)冷(leng)(leng)(leng)的熱(re)(re)源或冷(leng)(leng)(leng)源，整個(ge)量程范圍的溫(wen)(wen)(wen)度(du)精(jing)確控制(zhi)，恒(heng)(heng)溫(wen)(wen)(wen)波動(dong)度(du)達到±0.1℃， 應用(yong)(yong)于石油化工、制(zhi)藥等化學反應工藝過程控制(zhi)，半導體(ti)擴(kuo)散爐擴(kuo)散工藝控制(zhi)，對反應釜、全自(zi)動(dong)合成儀器(qi)、萃取以及冷(leng)(leng)(leng)凝(ning)裝置(zhi)的恒(heng)(heng)溫(wen)(wen)(wen)控溫(wen)(wen)(wen)或外循環應用(yong)(yong)。