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低溫(wen)小型恒溫(wen)水槽（-5℃～90℃）MD20-30I提供熱(re)冷(leng)(leng)受控，溫(wen)度(du)均勻恒定的場源，可作為直接加熱(re)、制冷(leng)(leng)、輔(fu)助加熱(re)、輔(fu)助制冷(leng)(leng)的熱(re)源或(huo)冷(leng)(leng)源，整(zheng)個量(liang)程范圍的溫(wen)度(du)精確控制，恒溫(wen)波動度(du)±0.05℃。

高低溫(wen)恒溫(wen)槽（-40℃～180℃）實現高溫(wen)195℃，用于石油化工(gong)、制(zhi)藥等化學(xue)反應(ying)(ying)工(gong)藝過(guo)程控(kong)制(zhi)，對反應(ying)(ying)釜、全自動合成(cheng)儀器(qi)、萃取以及冷凝裝置的恒溫(wen)控(kong)溫(wen)或外循環(huan)應(ying)(ying)用，低使用溫(wen)度-40℃

高(gao)低(di)溫(wen)(wen)恒溫(wen)(wen)槽(cao)MGD40-12為(wei)用戶提供(gong)熱冷受控，溫(wen)(wen)度(du)均(jun)勻恒定的(de)場(chang)源(yuan)，也可作為(wei)直(zhi)接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的(de)熱源(yuan)或冷源(yuan)， 應用于-40℃～180℃（高(gao)至溫(wen)(wen)度(du)195℃）石油化工(gong)、制藥等化學反(fan)應工(gong)藝過程(cheng)控制，半導體擴散(san)(san)爐擴散(san)(san)工(gong)藝控制，對反(fan)應釜(fu)、全自動合成儀器、萃(cui)取以(yi)及冷凝裝(zhuang)置的(de)恒溫(wen)(wen)控溫(wen)(wen)或外循(xun)環(huan)應用

計量(liang)檢定槽（-40℃～90℃）提供(gong)熱冷(leng)受控(kong)(kong)，溫度(du)均勻恒(heng)定的場源(yuan)，可作為直接加熱、制冷(leng)、輔助(zhu)加熱、輔助(zhu)制冷(leng)的熱源(yuan)或冷(leng)源(yuan)，整個量(liang)程(cheng)范圍的溫度(du)精確控(kong)(kong)制，恒(heng)溫波動度(du)±0.05℃。

MDG20-54-高低(di)溫(wen)(wen)恒(heng)溫(wen)(wen)循(xun)環(huan)槽-（20℃～180℃）實現高溫(wen)(wen)195℃，低(di)溫(wen)(wen)-20℃恒(heng)溫(wen)(wen)測試，為用(yong)戶(hu)提供熱(re)(re)冷(leng)(leng)(leng)受控(kong)，溫(wen)(wen)度(du)均(jun)勻恒(heng)定的(de)場(chang)源(yuan)，也可作為直接加熱(re)(re)、制(zhi)(zhi)冷(leng)(leng)(leng)、輔助加熱(re)(re)、輔助制(zhi)(zhi)冷(leng)(leng)(leng)的(de)熱(re)(re)源(yuan)或冷(leng)(leng)(leng)源(yuan)，整個(ge)量程范圍的(de)溫(wen)(wen)度(du)精確(que)控(kong)制(zhi)(zhi)，恒(heng)溫(wen)(wen)波(bo)動度(du)達到(dao)±0.05℃， 應用(yong)于石油化工(gong)、制(zhi)(zhi)藥等化學反應工(gong)藝過程控(kong)制(zhi)(zhi)，半導體擴(kuo)散爐擴(kuo)散工(gong)藝控(kong)制(zhi)(zhi)，對反應釜(fu)、全(quan)自動合成儀器、萃(cui)取以及冷(leng)(leng)(leng)凝(ning)裝置的(de)恒(heng)溫(wen)(wen)控(kong)溫(wen)(wen)或外(wai)循(xun)環(huan)應用(yong)。

MGD40-30-高低(di)溫恒溫循環(huan)槽（-40℃～180℃）為(wei)用(yong)(yong)戶提(ti)供熱冷(leng)受(shou)控(kong)，溫度(du)均勻恒定的(de)場源，也可作為(wei)直接(jie)加熱、制(zhi)冷(leng)、輔助(zhu)加熱、輔助(zhu)制(zhi)冷(leng)的(de)熱源或冷(leng)源， 應用(yong)(yong)于-40℃～180℃（高至溫度(du)195℃）石(shi)油化工(gong)、制(zhi)藥(yao)等化學(xue)反應工(gong)藝過程控(kong)制(zhi)，半導體(ti)擴散(san)爐擴散(san)工(gong)藝控(kong)制(zhi)，對反應釜(fu)、全自(zi)動合(he)成儀器、萃(cui)取以及冷(leng)凝裝置的(de)恒溫控(kong)溫或外循環(huan)應用(yong)(yong)

MD10-100-大容量低溫恒溫槽(cao)（-10℃～90℃） 低溫恒溫槽(cao)提供熱冷(leng)受控(kong)，溫度均(jun)勻恒定的(de)場源，可作為直接(jie)加熱、制冷(leng)、輔助(zhu)加熱、輔助(zhu)制冷(leng)的(de)熱源或冷(leng)源，整個量程(cheng)范圍的(de)溫度精確控(kong)制，恒溫波動度±0.05℃。

高(gao)溫(wen)恒溫(wen)循(xun)環(huan)槽(cao)采用PID微機智能(neng)控(kong)制(zhi)(zhi)系統，配合高(gao)溫(wen)油泵循(xun)環(huan)，使槽(cao)內溫(wen)度更(geng)均(jun)勻、控(kong)溫(wen)更(geng)精確；用于樣(yang)品保存、分析測試、計(ji)量(liang)檢定(ding)(ding)以及化(hua)學反(fan)應工藝(yi)過程控(kong)制(zhi)(zhi)，也可以作為普通溫(wen)度計(ji)及其它溫(wen)度測量(liang)儀表制(zhi)(zhi)造中的(de)定(ding)(ding)標用途，可以按用戶要求提供流(liu)量(liang)、壓力(li)及接口連接方(fang)式、連接尺寸等定(ding)(ding)制(zhi)(zhi)。

高(gao)溫(wen)(wen)檢(jian)定恒溫(wen)(wen)槽(cao)用(yong)于石(shi)油(you)、化工(gong)、電子儀(yi)表、物(wu)理(li)、化學(xue)、生物(wu)工(gong)程(cheng)、醫(yi)藥(yao)衛生、生命科學(xue)、輕(qing)工(gong)食(shi)品(pin)、物(wu)性測試及化學(xue)分(fen)析等(deng)研究(jiu)部門，高(gao)等(deng)院(yuan)校，企業質(zhi)檢(jian)及生產(chan)部門，對(dui)試驗(yan)樣品(pin)或生產(chan)的產(chan)品(pin)進行恒定溫(wen)(wen)度(du)(du)試驗(yan)或測試，為用(yong)戶工(gong)作時提(ti)供一個(ge)熱受控(kong)，溫(wen)(wen)度(du)(du)均勻恒定的場源；可實(shi)現90℃～300℃溫(wen)(wen)度(du)(du)控(kong)制，整個(ge)量程(cheng)范圍的溫(wen)(wen)度(du)(du)精(jing)確控(kong)制，恒溫(wen)(wen)波動度(du)(du)達到±0.01℃